研究樣品的電表面狀態(tài) ， 專用于測量半導體樣品表面的電子功函數(shù)
掃描Kelvin Probe（開爾文探針）可以測量 CPD（接觸電位差）值，評估半導體和導電材料的功函數(shù)。該技術起源于19世紀末，
最早由英國科學家開爾文勛爵所提出，隨著科學技術的不斷進步，開爾文探針技術逐漸得到改進和完善，應用領域也不斷擴大。目前，
開爾文探針技術已經(jīng)成為表面科學、材料科學、微電子學等領域的重要研究手段。
「 適用研究范圍 」
·材料的功函數(shù) ·費米能級的位置 · n或p型半導體
·半導體的能隙 ·表面電勢 ·表面態(tài)密度
·表面充放電效應 ·少數(shù)載流子擴散長度 ·溫度和濕度對功函數(shù)的影響
·更多特性
Instytut Fotonowy 公司提供多種配置的開爾文探針系統(tǒng)，滿足不同的應用場景：
1. 單點開爾文探針系統(tǒng)：用于研究功函數(shù)，能夠精準測量樣品表面特定位置的接觸電位差（CPD）。
2. 掃描開爾文探針系統(tǒng)：用于分析樣品的表面狀態(tài)，能夠評估表面缺陷、表面態(tài)密度等特性。
3. 電化學開爾文探針系統(tǒng)：這是一款創(chuàng)新的設備，專為直接測量與電解質(zhì)接觸的電化學樣品電子功函數(shù)設 計，無需干燥樣品表面，配備
了專用的電化學樣品池。
「 探針結構圖 」
探頭尖端是 Instytut Fotonowy 獨家設計制造。其優(yōu)勢顯著，即便距樣品 0.5 mm仍能獲取強信號，故而樣品表面粗糙與否、是否拋光均
可，且具透光性，可使樣品受垂直光束照射。其尖端振蕩由電磁鐵驅(qū)動。
「 完整型開爾文探針系統(tǒng) 」
突破傳統(tǒng)，消除接觸電勢差測量中的模糊性
Fotonowy 開發(fā)的完整型開爾文探針系統(tǒng)，解決了150年歷史中開爾文探針技術的關鍵瓶頸，尤其是在接觸電位差（CPD）測量時難以區(qū)分
樣品功函數(shù)變化與探針功函數(shù)變化的問題。該系統(tǒng)不僅繼承了傳統(tǒng)開爾文探針的所有基本功能，還實現(xiàn)了精確測量樣品與探針相對于地面的
接觸電位差（CPD）。
精準可靠，功能多樣的接觸電位差測量
本系統(tǒng)提供了更加精準、可靠的接觸電位差測量方案，并為科研中的電位差測量設立了全新的標準。無論是在表面功函數(shù)研究、電子性能測
試，還是在材料表面狀態(tài)分析中，它都能提供無與倫比的測量精度，助力科研人員深入探究電化學和材料性能。
「 技術規(guī)格 」
系統(tǒng)概述：
· 測量技術：2通道鎖相放大器
· 激光屏障：自動檢測基板并防止探針尖端撞擊樣品
· 輔助傳感器：濕度、溫度
· 小燈：激光指示器用于指示待測表面點
樣品夾具：自由形狀的固態(tài)頂端接觸夾具，底部接觸夾具， 電化學夾具
法拉第籠：標準型 / 氣密型帶惰性氣體流動系統(tǒng)
測量單元：
· 偏置電壓范圍：-5 ~ 5 V
· 電壓測量分辨率：0.15 mV
· 電流范圍：300 nA，30 nA，3 nA，300 pA
探針尖端：
· 探針尖端類型：金網(wǎng)，直徑2.5mm
· 垂直軸上的定位分辨率：20μm
· 自動共振頻率掃描，可調(diào)節(jié)的振動幅度
· 自動去除探針尖端的寄生電流
· 典型的CPD測量距離：0.2 ~ 1mm
XY控制平臺：
· 電動：通過軟件控制
· 尺寸：50 x 50 mm
· 移動范圍：50 x 50 mm
